非鉄金属ターゲット材 結晶ハフニウム(Hf) - 3N

非鉄金属ターゲット材 結晶ハフニウム(Hf) - 3N

素記号:Hf

純度:Hf≧99.9%

原子量:178.49

熔点:2227℃

沸点:4602℃

密度:13.31g/cm⊃3;

 

梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装

 

  • 日本国内での実績もあり、品質保証致します。

ミルシート有。

成分
Hf
99.9%


よく比較される材料 その他材料比較
分類名 特性 用途 その他説明
比重硬度熔点沸点融点
金属アンチモン(Sb) -3N
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6.69g/cm³3モース硬度630℃1587℃-ターゲット、アンチモンは半金属に分類されるレアメタルの一つです。古くは顔料や化粧品の材料に使われたこともありましたが、毒性のため現在はこうした用途では使われていません。主として半導体材料や電極、合金材料などに使われています。三酸化アンチモンには難燃効果もあるため、燃えやすいゴム、プラスチック、繊維などに添加することで防燃材としても活用されています。
金属テルル(Te) - 4N
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6.24g/cm³2.25モース硬度450℃988℃-ターゲット、半導体部品、テルルはカルコゲンに分類される半金属の一つで、レアメタルでもあります。有毒な金属であり、体内に取り込まれると悪臭を放つとされます。 テルルの主要な用途は鉄鋼素材へ添加することで快削性や耐食性を向上させることができることから、合金添加元素として用いられるほか、DVD-RAMの記憶媒体や熱電変換素子としても使われます。
高純度チタン(Ti) - 5N
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4.506g/cm³2.25モース硬度1668℃3277℃-ターゲット、半導体材料、スパッタリングターゲット材、真空装置内のゲッター材料、
金属バナジウム(V) - 2N5
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6.11g/cm³2.25モース硬度1910℃3407℃-ターゲット材、
金属マンガン(Mn) - 3N
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7.3g/cm³2.25モース硬度1246℃2095℃-ターゲット、
金属コバルト(Co) - 3N5
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8.92g/cm³2.25モース硬度1495℃2927℃-ターゲット、金属コバルトは、良好な半導体性質と、磁性及び導電性能を有しています。 高純度コバルトは、磁気記録媒体、光電気のセンサー、集積回路等の装置部品によく使われている重要な材料でもあります。
金属ニッケル(Ni) - 4N
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8.908g/cm³2.25モース硬度1455℃2732℃-スパッタリングターゲット、磁性薄膜、特殊電子材料及び合金材料、
金属クロム(Cr) - 3N5
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7.19g/cm³2.25モース硬度1907℃2671℃-半導体チップ、精密電子部品、光学材料のコーティング材料、金属クロムは、耐摩耗、抗腐食、スパッタリングの付着力が良く、なお、優れた導熱導電性を有しているため、半導体チップ、精密電子部品、光学材料のコーティング材料として使われています。
金属亜鉛(Zn) - 4N5
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7.14g/cm³2.25モース硬度419.5℃907℃-ターゲット材、半導体材料、
金属マグネシウム(Mg)
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1.738g/cm³2.25モース硬度650℃1100℃-ターゲット材、
金属ボロン(B) - 3N
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2.34g/cm³2.25モース硬度2075℃2550℃-ターゲット、半導体材料、
金属バリウム(Ba) - 2N5
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3.62g/cm³2.25モース硬度727℃1640℃-ターゲット、脱ガス・エージェント、ゲッター材、合金材料、
金属ストロンチウム(Sr) - 2N5
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2.64g/cm³2.25モース硬度777℃1382℃-ターゲット材、ゲッター材、
金属カルシウム(Ca) - 2N5
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1.55g/cm³2.25モース硬度842℃1484℃-脱ガス・エージェント、ゲッター材、ターゲット、
金属リチウム(Li) - 3N
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0.53g/cm³2.25モース硬度180.541330℃-ターゲット、
金属鉛(Pb) - 4N5
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11.34g/cm³2.25モース硬度327.5℃1749℃-ターゲット、
金属タングステン(W) - 3N5
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19.30g/cm³2.25モース硬度3695℃5828℃-ターゲット、
金属ビスマス(Bi) - 4N
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9.8g/cm³2.25モース硬度3695℃1560℃271.3℃ターゲット、クリーンルームでの真空溶解により製造されています。
金属ゲルマニウム(Ge) - 5N
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5.32g/cm³2.25モース硬度937.2℃2830℃271.3℃ターゲット、太陽光半導体部品、
結晶ジルコニウム(Zr) - 3N5
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6.506g/cm³2.25モース硬度1855℃3580℃271.3℃ターゲット、特殊合金溶解、
結晶ハフニウム(Hf) - 3N
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13.31g/cm³2.25モース硬度2227℃4602℃271.3℃ターゲット、
金属タンタル(Ta) - 3N5
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16.69g/cm³2.25モース硬度3290℃5731℃271.3℃ターゲット、
金属モリブデン(Mo) - 3N5
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10.30g/cm³2.25モース硬度2896℃4912℃271.3℃ターゲット、
金属タンタル(Ta) - 4N
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16.69g/cm³2.25モース硬度3290℃5731℃271.3℃ターゲット、
金属ニオブ(Nb) - 3N
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8.57g/cm³2.25モース硬度2750℃5017℃271.3℃ターゲット、
分類名 成分
金属アンチモン(Sb) -3N
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Sb -----
99.9%-----
金属テルル(Te) - 4N
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Te -----
99.99%-----
高純度チタン(Ti) - 5N
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Ti -----
99.999%-----
金属バナジウム(V) - 2N5
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V -----
99.5%-----
金属マンガン(Mn) - 3N
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Mn -----
99.9%-----
金属コバルト(Co) - 3N5
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Co -----
99.95%-----
金属ニッケル(Ni) - 4N
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Ni -----
99.99%-----
金属クロム(Cr) - 3N5
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Cr -----
99.95%-----
金属亜鉛(Zn) - 4N5
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Zn -----
99.995%-----
金属マグネシウム(Mg)
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Mg -----
99.95%-----
金属ボロン(B) - 3N
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Be -----
99.9%-----
金属バリウム(Ba) - 2N5
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Ba -----
99.5%-----
金属ストロンチウム(Sr) - 2N5
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Sr -----
99.5%-----
金属カルシウム(Ca) - 2N5
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Ca -----
99.5%-----
金属リチウム(Li) - 3N
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Li -----
99.9%-----
金属鉛(Pb) - 4N5
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Pb -----
99.95%-----
金属タングステン(W) - 3N5
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W -----
99.95%-----
金属ビスマス(Bi) - 4N
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Bi Cu Pb Zn Fe Ag
99.99%0.001%0.001%0.0005%0.001%0.004%
金属ゲルマニウム(Ge) - 5N
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Ge -----
99.999%-----
結晶ジルコニウム(Zr) - 3N5
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Zr -----
99.95%-----
結晶ハフニウム(Hf) - 3N
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Hf -----
99.9%-----
金属タンタル(Ta) - 3N5
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Ta -----
99.95%-----
金属モリブデン(Mo) - 3N5
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Mo -----
99.95%-----
金属タンタル(Ta) - 4N
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Ta -----
99.99%-----
金属ニオブ(Nb) - 3N
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Nb -----
99.9%-----

金属亜鉛(Zn) - 4N5

¥1,880~ 納期:25日

【原産国】CHINA

【用途】その他,ターゲット

【商品說明】元素記号:Zn 純度:Zn≧99.995% 原子量:65.38 熔  点:419.5℃ 沸  点:907℃ 密  度:7.14g/cm3   用途:半導体材料、ターゲット材 梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。 ミルシート有。

スカンジウム(Sc) - 3N

見積対象商品 納期:25日

【原産国】CHINA

【用途】その他,ターゲット

【商品說明】元素記号:Sc 純度:Sc 3N 原子量:44.95 融点:1814℃ 沸点:3109℃ 比重:2.985g/㎝⊃3; 用途:ターゲット材として、特殊合金金属の添加材、電極等 説明:銀白色の軟らかい金属で、空気中で酸化されて淡黄色もしくは淡桃色の酸化皮膜を生成し、常温でハロゲン元素とも反応します。    水や希酸には徐々に溶解し、熱水や酸には容易に溶けます。    ただし、硝酸とフッ化水素酸を1:1で混合した溶液に対しては反応しません。⇒不動態層(金属表面に腐食作用に抵抗する酸化被膜が生じた状態)が形成されるためといわれています。 梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装。 日本国内での実績もあり、品質保証いたします。

アルミ(Al)蒸着材 - 4N

¥2,517~ 納期:10日

【原産国】CHINA

【用途】蒸着材

【商品說明】元素記号:Al 純度:Al≧99.99% 分子量:36.98 融点:660.4℃ 沸点:2519℃ 密度:2.70g/cm⊃3; 表面:研磨   用途:高い導電率と良好な塑性を有しているため、電子工業、半導体材料、ターゲット材及びその他特殊用途として使われています。   日本国内での実績有り ミルシート有り

金属ビスマス(Bi) - 4N

¥9,294~ 納期:15日

【原産国】CHINA

【用途】その他,ターゲット

【商品說明】元素記号:Bi 純度:Bi≧99.99% 原子量:208.98038 融点:271.3℃ 沸点:1560℃ 生産方法:クリーンルームでの真空溶解により製造されています。   梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。 ミルシート有。

金属クロム(Cr) - 3N5

¥9,294~ 納期:15日

【原産国】CHINA

【用途】その他,ターゲット

【商品說明】元素記号:Cr 純度:Cr≧99.95% 原子量:54.9961 熔  点:1907℃ 沸  点:2671℃ 密  度:7.19g/cm3   用途:金属クロムは、耐摩耗、抗腐食、スパッタリングの付着力が良く、 なお、優れた導熱導電性を有しているため、半導体チップ、精密電子部品、光学材料のコーティング材料として使われています。 梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。 ミルシート有。

金属マグネシウム(Mg) - 3N5

¥1,950~ 納期:25日

【原産国】CHINA

【用途】その他,ターゲット

【商品說明】元素記号:Mg 純度:Mg≧99.95% 原子量:24.30 熔  点:650℃ 沸  点:1100℃ 密  度:1.738g/cm3 用途:ターゲット材 ※ 蒸着材は電極としても使われています   梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。 ミルシート有。

金属テルル(Te) - 4N

¥993~ 納期:25日

【原産国】CHINA

【用途】その他,ターゲット

【商品說明】元素記号:Te 純度:Te≧99.99% 熔点:450℃ 密度:6.24g/mL at 25 °C   用途:ターゲット、半導体部品。 ペレット状のものは、化工材料及び鋳鉄、ゴム、ガラスなどの添加物として使用されています。   梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。 ミルシート有。

ランタン(La)蒸着材 - 3N

¥9,439~ 納期:25日

【原産国】CHINA

【用途】蒸着材

【商品說明】元素記号:La 純度:La 3N 原子量:138.91 融点:920℃ 沸点:3464℃ 密度:6.17g/cm⊃3;   用途:ターゲット材として    説明:希土類元素の一つで、空気中で表面が酸化され、高温では酸化ランタン(III) La2O3 と なります。ハロゲン元素と反応し、水にはゆっくりと溶ける性質を持っています。   梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。

セリウム(Ce) - 3N

¥2,500~ 納期:25日

【原産国】CHINA

【用途】その他,ターゲット

【商品說明】元素記号:Ce 純度:Ce 3N 原子量:140.115 融点:798℃ 沸点:3433℃ 密度:6.77g/cm⊃3;   用途:ターゲット材として、特殊合金金属の添加材等   説明:銀白色の、延性に富む金属で、空気中で容易に酸化されます。    セリウムは希土類元素として最も豊富に存在しており、さまざまな鉱物中で見つか    ることができます。    触媒、排出物を還元するための燃料への添加剤、ガラス、エナメルの着色剤    等の用途しても使われています。   梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。

ガドリニウム(Gd)蒸着材 - 3N5

¥31,463~ 納期:25日

【原産国】CHINA

【用途】蒸着材

【商品說明】分子量:157.25 融点:1311.0 ℃ 沸点:3233.0 ℃ 密度(重量):7.9004 相对密度:100% 製造方法:クラック/真空烧结   用途:蒸着材                                      日本国内での実績有