ランタン(La)蒸着材 - 3N

ランタン(La)蒸着材 - 3N

元素記号:La

純度:La 3N

原子量:138.91

融点:920℃

沸点:3464℃

密度:6.17g/cm⊃3;

 

用途:ターゲット材として

  

説明:希土類元素の一つで、空気中で表面が酸化され、高温では酸化ランタン(III) La2O3 と

なります。ハロゲン元素と反応し、水にはゆっくりと溶ける性質を持っています。

 

梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装

 

  • 日本国内での実績もあり、品質保証致します。
成分
La
99.9%


よく比較される材料 その他材料比較
分類名 特性 用途 その他説明
比重融点沸点相対密度製造方法表面処理熔点表面密度膨張係数熱伝導率ヤング率
アルミ(Al)蒸着材 - 5N
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2.70g/cm³660.4℃2519℃---------蒸着材、高い導電率と良好な塑性を有しているため、電子工業、半導体材料、ターゲット材及びその他特殊用途として使われています。
銅(Cu)蒸着材 - 3N7
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8.94g/cm³1083℃2562℃---------蒸着材、良好な導電性、伸び、抗腐食力を有しているため、コストの高い金属材料の代わりに使われることが多いです。 電子、通信、宇宙航空分野等幅広く使われています。
銅(Cu)蒸着材 - 5N
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8.94g/cm³1083℃2562℃---------蒸着材、良好な導電性、伸び、抗腐食力を有しているため、コストの高い金属材料の代わりに使われることが多いです。 電子、通信、宇宙航空分野等幅広く使われています。
二酸化シリコン(SiO2)蒸着材 - 4N
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2.65g/cm³1650℃2230℃100%クラック/溶解-------蒸着材、
ホウ化チタン(TiB2)蒸着材 - 2N5
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4.52g/cm³2980℃2230℃90%クラック/真空熱圧焼結-------蒸着材、
窒化ボロン(BN)蒸着材 - 2N5
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2.26g/cm³3000℃2230℃75%クラック/真空窒素熱圧焼結-------蒸着材、
酸化亜鉛(ZnO)蒸着材 - 4N
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5.606g/cm³1975℃2360℃98%クラック/真空焼結-------蒸着材、
ニオブ(Nb)蒸着材 - 3N5
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8.57g/cm³2468℃4742℃95%ニオブ材カットカット酸洗------蒸着材、
マグネシウム(Mg)蒸着材 - 3N5
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1.738g/cm³2468℃1100℃95%ニオブ材カットカット酸洗650℃-----蒸着材、ターゲット材、電極、
バリウム(Ba)蒸着材 - 3N
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3.62g/cm³2468℃1640℃95%ニオブ材カットカット酸洗727℃-----蒸着材、脱ガス・エージェント、ゲッター材、合金材料、
ジスプロシウム(Dy)蒸着材 - 3N
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8.54g/cm³1409℃2562℃100%クラック/真空焼結カット酸洗727℃-----蒸着材、
イットリウム(Y)蒸着材 - 3N5
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4.46891522℃3338℃100%クラック/真空焼結カット酸洗727℃-----蒸着材、
ガドリニウム(Gd)蒸着材 - 3N5
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7.9004g/cm³1311.0℃3233.0℃100%クラック/真空焼結カット酸洗727℃-----蒸着材、
結晶ハフニウム(Hf)蒸着材 - 3N5
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13.31g/cm³1311.0℃4602℃100%クラック/真空焼結カット酸洗2227℃-----蒸着材、
セリウム(Ce)蒸着材 - 3N
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6.7g/cm³799℃3426℃100%クラック/真空焼結アセトン研磨、油の中にて包装2227℃-----蒸着材、
ランタン(La)蒸着材 - 3N
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6.17g/cm³920℃3464℃100%クラック/真空焼結アセトン研磨、油の中にて包装2227℃-----蒸着材、ターゲット材、希土類元素の一つで、空気中で表面が酸化され、高温では酸化ランタン(III) La2O3 となります。ハロゲン元素と反応し、水にはゆっくりと溶ける性質を持っています。
鉛(Pb)蒸着材 - 4N5
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11.3437g/cm³327.502℃1749℃100%溶解バブル研磨2227℃-----蒸着材、
バナジウム(V)蒸着材 - 2N5
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6.11g/cm³327.502℃3407℃100%溶解バブル研磨1910℃-----蒸着材、ターゲット材、
ゲルマニウム(Ge)蒸着材 - 5N
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5.35g/cm³938.25℃2830℃100%クラック/区域溶解研磨1910℃-----蒸着材、
三酸化タングステン(WO3 )蒸着材- 3N
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7.27g/cm³938.25℃1837℃65%クラック/真空焼結研磨1473℃-----蒸着材、
銀(Ag)蒸着材 - 4N
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10.5g/cm³938.25℃2210℃65%クラック/真空焼結研磨961.8℃-----電子工業、ターゲット材、半導体部品、その他特殊用途、
モリブデン(Mo)蒸着材 - 3N5
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10.30g/cm³938.25℃4639℃65%クラック/真空焼結研磨2623℃-----ターゲット材、真空部品、その他特殊用途、
タングステン(W)蒸着材 - 3N5
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19.3g/cm³938.25℃5900℃65%クラック/真空焼結研磨3410℃-----ターゲット材、真空部品、その他特殊用途、
ジルコニウム(Zr)蒸着材 - 2N4
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6.506g/cm³938.25℃3580℃65%クラック/真空焼結研磨1855℃-----蒸着材、
鉄(Fe)蒸着材 - 3N5
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7.87g/cm³1538℃2861℃65%クラック/真空焼結研磨1855℃研磨----蒸着材、ターゲット材、薄膜形成及び宇宙航空関連、電子工業関連、その他特殊用途、良好な延性と導熱性を有しており、イーメタルズで提供している高純度鉄はターゲット材として使われています。その他にも薄膜形成及び宇宙航空関連、電子工業関連とその他特殊用途として使われています。
ニッケル(Ni)蒸着材 - 3N5
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8.908g/cm³1538℃2732℃65%クラック/真空焼結研磨1455℃研磨----スパッタリングターゲット、磁性薄膜、特殊電子材料及び合金材料、
ニッケル(Ni)蒸着材 - 4N
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8.908g/cm³1538℃2732℃65%クラック/真空焼結研磨1455℃研磨----スパッタリングターゲット、磁性薄膜、特殊電子材料及び合金材料、
ニッケル(Ni)蒸着材 - 4N5
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8.908g/cm³1538℃2732℃65%クラック/真空焼結研磨1455℃研磨----スパッタリングターゲット、磁性薄膜、特殊電子材料及び合金材料、
チタン(Ti)蒸着材 - 5N
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4.506g/cm³1538℃3277℃65%クラック/真空焼結研磨1668℃研磨----蒸着材、半導体材料、スパッタリングターゲット材、真空装置内のゲッター材料、
アルミ(Al)蒸着材 - 4N
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2.70g/cm³660.4℃2519℃65%クラック/真空焼結研磨1668℃研磨----蒸着材、高い導電率と良好な塑性を有しているため、電子工業、半導体材料、ターゲット材及びその他特殊用途として使われています。
二酸化ジルコニウム(ZrO2)蒸着材
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5.89g/cm³2700℃4300℃65%クラック/真空焼結研磨1668℃研磨----蒸着材、
酸化ハフニウム(HfO)蒸着材 - 4N
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9.68g/cm³2182℃4300℃60%破片/圧片焼結研磨1668℃研磨----蒸着材、
二酸化ハフニウム(Hf02)蒸着材 - 3N
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9.68g/cm³2182℃4300℃60%破片/圧片焼結研磨1668℃研磨----蒸着材、
二酸化ハフニウム(HfO2)蒸着材 - 4N
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9.68g/cm³2182℃4300℃60%破片/圧片焼結研磨1668℃研磨----蒸着材、
二フッ化マグネシウム(MgF2)蒸着材 - 4N
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3.148g/cm³1261℃2260℃99%クラック/結晶成長研磨1668℃研磨----蒸着材、
三酸化二アルミ(Al203)蒸着材 - 4N
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3.5-3.9g/cm³2050℃2980℃95%クラック/結晶成長研磨1668℃研磨----蒸着材、
三酸化二クロム(Cr203)蒸着材 - 3N
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5.21g/cm³2266℃4000℃60%クラック/真空焼結研磨1668℃研磨----蒸着材、
炭化チタン(TiC)蒸着材 - 2N5
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4.93g/cm³3140℃4820℃60%クラック/真空焼結研磨1668℃研磨----蒸着材、
酸化ニッケル(NiO)蒸着材 - 4N
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6.67g/cm³1984℃4820℃60%クラック/真空焼結研磨1668℃研磨----蒸着材、
三酸化二鉄(Fe203)蒸着材 - 3N5
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5.24g/cm³1565℃3414℃70%クラック/真空焼結研磨1668℃研磨----蒸着材、
酸化マグネシウム(MgO)蒸着材 - 3N5
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3.58g/cm³1565℃3414℃70%クラック/真空焼結研磨2852℃研磨----蒸着材、
三酸化モリブデン(MoO3)蒸着材 - 3N
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4.69g/cm³1565℃3414℃70%クラック/真空焼結研磨795℃研磨----蒸着材、
炭化ボロン(B4C)蒸着材 - 2N5
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4.69g/cm³1565℃3500℃70%クラック/真空焼結研磨2350℃研磨----蒸着材、
硫化亜鉛(ZnS)蒸着材 - 4N
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4.09g/cm³1565℃3500℃70%クラック/真空焼結研磨2350℃研磨----蒸着材、
二酸化チタン(Ti02)蒸着材 - 4N
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4.29g/cm³1800℃3500℃70%真空焼結/HIP研磨2350℃研磨95%---蒸着材、
五酸化三チタン(Ti305)蒸着材 - 3N5
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4.29g/cm³1800℃3500℃90%真空焼結/HIP研磨2350℃研磨95%---蒸着材、
二フッ化セリウム(CeF2)蒸着材 - 3N5
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6.16g/cm³1800℃3500℃90%真空焼結/HIP研磨1418℃研磨95%---蒸着材、
酸フッ化イットリウム(YF3)蒸着材 - 3N5
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5.24g/cm³1565℃3414℃70%真空焼結/HIP研磨1418℃研磨95%---蒸着材、
二フッ化バリウム(BaF2)蒸着材 - 4N
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4.80g/cm³1565℃3414℃70%真空焼結/HIP研磨1360℃研磨95%18.1×10-6/℃11.72W/mK53.07Gpa蒸着材、無色結晶体、蒸気有毒の為取扱注意必要
分類名 成分
アルミ(Al)蒸着材 - 5N
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Al
99.999%
銅(Cu)蒸着材 - 3N7
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Cu
99.97%
銅(Cu)蒸着材 - 5N
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Cu
99.999%
ニオブ(Nb)蒸着材 - 3N5
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Nb
99.95%
マグネシウム(Mg)蒸着材 - 3N5
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Mg
99.95%
バリウム(Ba)蒸着材 - 3N
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Ba
99.5%
ジスプロシウム(Dy)蒸着材 - 3N
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Dy
99.9%
イットリウム(Y)蒸着材 - 3N5
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Y
99.95%
ガドリニウム(Gd)蒸着材 - 3N5
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Gd
99.95%
結晶ハフニウム(Hf)蒸着材 - 3N5
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Hf
99.9%
セリウム(Ce)蒸着材 - 3N
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Ce
99.9%
ランタン(La)蒸着材 - 3N
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La
99.9%
鉛(Pb)蒸着材 - 4N5
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Pb
99.95%
バナジウム(V)蒸着材 - 2N5
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V
99.5%
ゲルマニウム(Ge)蒸着材 - 5N
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Ge
99.999%
三酸化タングステン(WO3 )蒸着材- 3N
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W
99.9%
銀(Ag)蒸着材 - 4N
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Ag
99.99%
モリブデン(Mo)蒸着材 - 3N5
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Mo
99.95%
タングステン(W)蒸着材 - 3N5
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W
99.95%
ジルコニウム(Zr)蒸着材 - 2N4
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Zr
99.95%
鉄(Fe)蒸着材 - 3N5
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Fe
99.95%
ニッケル(Ni)蒸着材 - 3N5
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Ni
99.95%
ニッケル(Ni)蒸着材 - 4N
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Ni
99.99%
ニッケル(Ni)蒸着材 - 4N5
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Ni
99.995%
チタン(Ti)蒸着材 - 5N
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Ti
99.999%
アルミ(Al)蒸着材 - 4N
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Al
99.99%

ボロン

¥35,280~ 納期:15日

【原産国】CHINA

【用途】その他,単結晶シリコンの添加物

【商品說明】原子量:10.811 融点:2075℃ 沸点:2550℃ 密度:2.34g/cm3

酸化インジウムスズ(ITO)(90/10)

¥12,600~ 納期:15日

【原産国】CHINA

【用途】その他,透明な導電膜,導熱膜,紫外線,マイクロ波膜等形成時

【商品說明】化学式:ITO 分子量:428.34 密度:7.1g/cm3 融点:1565℃ 屈折率:2.0 製造方法:HP熱圧 相対密度:>99% 外観:黒色 説明:透明な導電膜、導熱膜、紫外線、マイクロ波膜等形成時に使われています。          用途に応じて配合の比率を変えたりします。

ボロンチタン

¥20,160~ 納期:15日

【原産国】CHINA

【用途】その他,導電材料,真空コーティング材料

【商品說明】化学式:BaTiO3 分子量:233.1922 融点:1625℃ 製造方法:HP熱圧 説明:純度が高く、結晶粒度小さく、密度が高いです。それぞれ違うスパッタリング設備に使用可能です。

酸化ニオブ

¥12,600~ 納期:15日

【原産国】CHINA

【用途】その他,コーティング

【商品說明】化学式:Nb2O5 分子量:265.82 密度:4.46g/cm3 融点:1530℃ 屈折率:2.3 透明波段(um):0.36-9um 製造方法:HP熱圧 外観:黒色 説明:屈折率が高く、コーティング層の緻密、抗化学腐食作用を有しています。

結晶ジルコニウム(Zr) - 3N5

¥27,881~ 納期:15日

【原産国】CHINA

【用途】その他,ターゲット

【商品說明】素記号:Zr 純度:Zr≧99.95% 原子量:91.22 熔点:1855℃ 沸点:3580℃ 密度:6.506g/cm⊃3;   Hf≦0.1 用途:ターゲット、特殊合金溶解に使われている。 梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。 ミルシート有。

金属マグネシウム(Mg)

¥6,196~ 納期:15日

【原産国】CHINA

【用途】その他,ターゲット

【商品說明】元素記号:Mg 純度:Mg≧99.95% 原子量:24.30 熔  点:650℃ 沸  点:1100℃ 密  度:1.738g/cm3 用途:ターゲット材 ※ 蒸着材は電極としても使われています   梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。 ミルシート有。

プラセオジム(Pr) - 3N

¥413~ 納期:25日

【原産国】CHINA

【用途】その他,ターゲット

【商品說明】元素記号:Pr 純度:Pr 3N 原子量:140.91 融点:935℃ 沸点:3020℃ 密度:6.77g/cm⊃3;   用途:ターゲット材として、特殊合金金属の添加材等   説明:銀白色の金属で、常温下の空気中で酸化され表面は黄色の酸化物で覆われます。    展性、延性があり、熱水と徐々に反応し水素および水酸化物を生成します。    コバルトとの合金はプラセオジム磁石の材料として使われています。   梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。

酸化ニッケル

¥22,680~ 納期:15日

【原産国】CHINA

【用途】その他,磁性材料,冶金,蓄電池等の材料

【商品說明】化学式:NiO 分子量:74.69 密度:7.45g/cm3 融点:1960℃ 屈折率:2.0-2.1 製造方法:HP熱圧 外観:黒色 説明:磁性材料、冶金、蓄電池等の材料として使われています。

ジスプロシウム(Dy) - 3N

¥34,077~ 納期:15日

【原産国】CHINA

【用途】その他,ターゲット

【商品說明】元素記号:Dy 純度:Dy 3N 原子量:162.50 融点:1412℃ 沸点:2567℃ 密度:8.55g/cm⊃3;   用途:ターゲット材として、その他   説明:銀白色の金属で、その存在がきわめて偏在しております。    空気中で表面が酸化され、高温で燃焼して Dy2O3 となります。    水にはゆっくりと溶け、酸に易溶します。    光磁気ディスク(光メモリ)の材料や磁石、蓄光剤の添加剤として利用されています。   梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。

窒化ボロン

¥22,680~ 納期:15日

【原産国】CHINA

【用途】その他,コーティング

【商品說明】化学式:BN 融点:3000℃ 密度:2.26g/cm3 at25℃ 製造方法:HP熱圧 説明:密封して乾燥或いは光を避ける場所で保存します。