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99.9998%を超える純度を有する高純度アルミニウム材料は、
スパッタリングターゲットや蒸着材などの電子材料分野、および超伝導材料分野などに用いられております。
そして、今後は高純度アルミの特性を活かした用途開発が期待されており、これからのニーズはさらに増えていく見込みとなります。

高純度アルミの特徴：

◎ 電気伝導性が優れている
◎ 耐食性がよい
◎ 抵抗比が大きい
◎ 反射率がかなり高い
◎ 切削加工性がよい

成分：

Al ：≧99.9998
Fe ：< 0.0010
Si ：< 0.0010
Cu ：< 0.0015
Zn ：< 0.001
その他 ：< 0.001

99.999%を超える純度を有する高純度アルミニウム材料は、スパッタリングターゲットや蒸着材などの電子材料分野、および超伝導材料分野などに用いられております。
そして、今後は高純度アルミの特性を活かした用途開発が期待されており、これからのニーズはさらに増えていくと見込みです。

高純度アルミの特徴：

◎ 電気伝導性が優れている
◎ 耐食性がよい
◎ 抵抗比が大きい
◎ 反射率がかなり高い
◎ 切削加工性がよい

成分：

Al ：≧99.999
Fe ：<0.0010
Si ：<0.0010
Cu ：<0.0015
Zn ：<0.001
その他 ：<0.001

99.99%を超える純度を有する高純度アルミニウム材料は、スパッタリングターゲットや蒸着材などの電子材料分野、および超伝導材料分野などに用いられております。
そして、今後は高純度アルミの特性を活かした用途開発が期待されており、これからのニーズはさらに増えていくと見込みです。

高純度アルミの特徴：

◎ 電気伝導性が優れている
◎ 耐食性がよい
◎ 抵抗比が大きい
◎ 反射率がかなり高い
◎ 切削加工性がよい

成分：

Al ：≧99.99
Fe ：<0.0010
Si ：<0.0010
Cu ：<0.0015
Zn ：<0.001
その他 ：<0.001

99.999%を超える純度を有する高純度アルミニウム材料は、スパッタリングターゲットや蒸着材などの電子材料分野、および超伝導材料分野などに用いられております。
そして、今後は高純度アルミの特性を活かした用途開発が期待されており、これからのニーズはさらに増えていくと見込みです。

高純度アルミの特徴：

◎ 電気伝導性が優れている
◎ 耐食性がよい
◎ 抵抗比が大きい
◎ 反射率がかなり高い
◎ 切削加工性がよい

成分：

Al ：≧99.999
Fe ：<0.0010
Si ：<0.0010
Cu ：<0.0015
Zn ：<0.001
その他 ：<0.001

99.9998%を超える純度を有する高純度アルミニウム材料は、
スパッタリングターゲットや蒸着材などの電子材料分野、および超伝導材料分野などに用いられております。
そして、今後は高純度アルミの特性を活かした用途開発が期待されており、これからのニーズはさらに増えていく見込みとなります。

高純度アルミの特徴：

◎ 電気伝導性が優れている
◎ 耐食性がよい
◎ 抵抗比が大きい
◎ 反射率がかなり高い
◎ 切削加工性がよい

成分：

Al ：≧99.9998
Fe ：< 0.0010
Si ：< 0.0010
Cu ：< 0.0015
Zn ：< 0.001
その他 ：< 0.001

99.99%を超える純度を有する高純度アルミニウム材料は、スパッタリングターゲットや蒸着材などの電子材料分野、および超伝導材料分野などに用いられております。
そして、今後は高純度アルミの特性を活かした用途開発が期待されており、これからのニーズはさらに増えていくと見込みです。

高純度アルミの特徴：

◎ 電気伝導性が優れている
◎ 耐食性がよい
◎ 抵抗比が大きい
◎ 反射率がかなり高い
◎ 切削加工性がよい

成分：

Al ：≧99.99
Fe ：<0.0010
Si ：<0.0010
Cu ：<0.0015
Zn ：<0.001
その他 ：<0.001

元素記号：Cu

純度：Cu≧99.97%

分子量：63.55

融点：1083℃

沸点：2562℃

密度：8.94g/cm⊃3;

表面：酸洗

用途：良好な導電性、伸び、抗腐食力を有しているため、コストの高い金属材料の代わりに使われることが多いです。

　　電子、通信、宇宙航空分野等幅広く使われています。

• 日本国内での実績有り
• ミルシート有り

準備中です……
※ 日本国内での実績有り
※ ミルシート有り

SiO2 - 4N          

分子量：60.08

融点：1650(±50)℃

沸点：2230℃

密度(重量)：2.65

相对密度：100%

製造方法：クラック／溶解

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有

融点：2980℃

密度(重量)： 4.52 g/cm3

相对密度：90%

製造方法：クラック／真空熱圧烧结

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有

BN - 2N5    

分子量：24.8177

融点：3000℃ 

密度(重量)：2.26

相对密度：75%

製造方法：クラック／真空窒素熱圧烧结

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有

ZnO - 4N     

分子量：81.39

融点：1975℃

沸点：2360 °C

密度(重量)：5.606

相对密度：98%

製造方法：クラック／真空烧结

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有

準備中です……
※ 日本国内での実績有り
※ ミルシート有り

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※ 日本国内での実績有り
※ ミルシート有り

分子量：92.90638

融点：2468℃

沸点：4742℃

密度(重量)：8.57

相对密度：95%

表面処理：カット酸洗

製造方法：ニオブ材カット

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有

元素記号：Mg
純度：Mg≧99.95%

原子量：24.30

熔  点：650℃

沸  点：1100℃

密  度：1.738g/cm3

用途：蒸着材、ターゲット材 ※ 蒸着材は電極としても使われています

梱包：クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装

元素記号：Ba
純度：B≧99.5%

原子量：137.33

熔  点：727℃

沸  点：1640℃

密  度：3.62g/cm3

用途：脱ガス・エージェント、ゲッター材、合金材料

梱包：クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装

Pb - 4N5           

分子量：207.2

融点：327.502°C

沸点：1749°C

密度(重量)：11.3437

相对密度：100%

表面処理：研磨

製造方法：溶解バブル

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有

純度：V≧99.5%

原子量：50.94

熔点：1910℃

沸点：3407℃

密度：6.11g/cm⊃3;

用途：ターゲット材

梱包：クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装

ITO(濃いブルー) - 4N

分子量：428.343

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有
• ミルシート有り

MgF2 - 4N    

分子量：62.3018

融点：1261°C

沸点：2260°C

密度(重量)：3.148 g/cm3

相对密度：99%

製造方法：クラック／結晶成長

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有

Al203 - 4N  

分子量：101.96

融点：2050ºC

沸点：2980ºC

密度(重量)：3.5-3.9g/cm3

相对密度：95%

製造方法：クラック／結晶成長

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有

準備中です……
※ 日本国内での実績有り
※ ミルシート有り

Cr203 - 3N          

分子量：151.99

融点：2266℃

沸点：4000℃

密度(重量)：5.21

相对密度：60%

製造方法：クラック／真空烧结

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有

TiC - 2N5    

分子量：59.91

融点：3140

沸点：4820

密度(重量)：4.93

相对密度：60%

製造方法：クラック／真空烧结

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有

NiO - 4N     

分子量：74.69

融点：1984℃

密度(重量)：6.67

相对密度：60%

製造方法：ラック／真空烧结

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有

素記号：WO3

純度：W≧99.9%

原子量：215.8388

熔点：1473℃

沸点：1837℃

密度：7.27g/cm⊃3;

相対密度：80%

製造方法：クラック/真空焼結

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有り
• ミルシート有り

Fe203  3N5 

分子量：159.6882

融点：1565℃.

沸点：3414 °C

密度(重量)：5.24 g/cm⊃3;

相对密度：70%

製造方法：クラック／真空烧结

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有

MgO - 3N5  

素記号：MO

原子量：40.3

熔点：2852℃

密度：3.58g/cm⊃3;

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有り
• ミルシート有り

素記号：MoO3

原子量：143.94

熔点：795℃

密度：4.69g/cm⊃3;

用途：蒸着材

• 日本国内での実績有り
• ミルシート有り