タンタルナイトライド粉末
窒化タンタル粉 - TaN2
見積対象商品
納期:30日
【粒度】 2µm〜5µm
【成分】
N:4.0-7.0% T.C:≦0.5% O:≦1.0% Fe:≦0.1% Ta:Bal.%
【原産国】CHINA
【商品説明】
◎ 英名：TANTALUM NITRIDE POWDER
◎ 化学式：TaN
◎ 密度 ：14.6g/cm³
◎ 融点 ：3,360℃
◎ 窒化タンタルは、タンタルの窒化物であり、銅やその他の導電性金属の間のバリアや「糊」の層、または熱酸化物等の誘電絶縁体フィルムの製造によく使われます。これらのフィルムは集積回路の製造の際に、薄膜抵抗器等として、シリコンウェハーの上に沈着されます。
◎ 用途：板状の電気抵抗材料の製造に利用され、窒化タンタル電気抵抗は水とガスの浸食に強いです。超硬合金材料に添加剤としても使われており、TaH5は溶射、変圧器、集積回路、ダイオード等の安定性に使われます。
※ 梱包は、二重のポリエステル袋で梱包した後、鉄鋼製のだラムに格納。
※ 粒子の大きさ、炭素含有量、添加剤及び物理的性質につきてましては顧客の要求により調整可能。
窒化タンタル粉 - TaN1
見積対象商品
納期:30日
【粒度】 1µm〜2µm
【成分】
N:4.0-7.0% T.C:≦0.5% O:≦1.0% Fe:≦0.1% Ta:Bal.%
【原産国】CHINA
【商品説明】
◎ 英名：TANTALUM NITRIDE POWDER
◎ 化学式：TaN
◎ 密度 ：14.6g/cm³
◎ 融点 ：3,360℃
◎ 窒化タンタルは、タンタルの窒化物であり、銅やその他の導電性金属の間のバリアや「糊」の層、または熱酸化物等の誘電絶縁体フィルムの製造によく使われます。これらのフィルムは集積回路の製造の際に、薄膜抵抗器等として、シリコンウェハーの上に沈着されます。
◎ 用途：板状の電気抵抗材料の製造に利用され、窒化タンタル電気抵抗は水とガスの浸食に強いです。超硬合金材料に添加剤としても使われており、TaH5は溶射、変圧器、集積回路、ダイオード等の安定性に使われます。
※ 梱包は、二重のポリエステル袋で梱包した後、鉄鋼製のだラムに格納。
※ 粒子の大きさ、炭素含有量、添加剤及び物理的性質につきてましては顧客の要求により調整可能。
