非鉄金属ターゲット材 金属タングステン(W) - 3N5

用途:その他,ターゲット
元素記号:W 純度:W≧99.95% 原子量:183.84.2 熔  点:3695℃ 沸  点:5828℃ 密  度:19.30g/cm3   梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装   日本国内での実績もあり、品質保証致します。 ミルシ ...
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寸法 重量(kg) 発送(日) 単価 数量
W - 3N5
Φ50.8*3mm
0.12 15 ¥7,976 pcs
W - 3N5
Φ50.8*4mm
0.16 15 ¥9,970 pcs
W - 3N5
Φ50.8*5mm
0.2 15 ¥12,296 pcs
W - 3N5
Φ50.8*6mm
0.24 15 ¥13,958 pcs
W - 3N5
Φ76.2*3mm
0.26 15 ¥15,478 pcs
W - 3N5
Φ76.2*4mm
0.35 15 ¥19,441 pcs
W - 3N5
Φ76.2*5mm
0.44 15 ¥23,928 pcs
W - 3N5
Φ76.2*6mm
0.53 15 ¥28,265 pcs
W - 3N5
Φ101.6*3mm
0.47 15 ¥25,523 pcs
W - 3N5
Φ101.6*4mm
0.63 15 ¥33,499 pcs
W - 3N5
Φ101.6*5mm
0.78 15 ¥41,209 pcs
W - 3N5
Φ101.6*6mm
0.94 15 ¥45,463 pcs
W - 3N5
Φ152.4*3mm
1.06 15 ¥49,351 pcs
W - 3N5
Φ152.4*4mm
1.41 15 ¥59,820 pcs
W - 3N5
Φ152.4*5mm
1.76 15 ¥74,775 pcs
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用途:その他,ターゲット

元素記号:W
純度:W≧99.95%

原子量:183.84.2

熔  点:3695℃

沸  点:5828℃

密  度:19.30g/cm3

 

梱包:クリーン処理されている特殊ビニール袋での真空包装

 

  • 日本国内での実績もあり、品質保証致します。

ミルシート有。

成分
W
99.95%
その他材料比較
分類名 特性 用途 その他説明
比重熔点沸点硬度融点
金属亜鉛(Zn) - 4N5
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7.14g/cm³419.5℃907℃--ターゲット材、半導体材料、
金属クロム(Cr) - 3N5
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7.19g/cm³1907℃2671℃--半導体チップ、精密電子部品、光学材料のコーティング材料、金属クロムは、耐摩耗、抗腐食、スパッタリングの付着力が良く、なお、優れた導熱導電性を有しているため、半導体チップ、精密電子部品、光学材料のコーティング材料として使われています。
金属ニッケル(Ni) - 4N
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8.908g/cm³1455℃2732℃--スパッタリングターゲット、磁性薄膜、特殊電子材料及び合金材料、
金属コバルト(Co) - 3N5
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8.92g/cm³1495℃2927℃--ターゲット、金属コバルトは、良好な半導体性質と、磁性及び導電性能を有しています。 高純度コバルトは、磁気記録媒体、光電気のセンサー、集積回路等の装置部品によく使われている重要な材料でもあります。
金属ニオブ(Nb) - 3N
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8.57g/cm³2750℃5017℃--ターゲット、
金属タンタル(Ta) - 4N
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16.69g/cm³3290℃5731℃--ターゲット、
金属タンタル(Ta) - 3N5
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16.69g/cm³3290℃5731℃--ターゲット、
金属モリブデン(Mo) - 3N5
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10.30g/cm³2896℃4912℃--ターゲット、
金属タングステン(W) - 3N5
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19.30g/cm³3695℃5828℃--ターゲット、
金属鉛(Pb) - 4N5
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11.34g/cm³327.5℃1749℃--ターゲット、
金属リチウム(Li) - 3N
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0.53g/cm³180.541330℃--ターゲット、
金属カルシウム(Ca) - 2N5
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1.55g/cm³842℃1484℃--脱ガス・エージェント、ゲッター材、ターゲット、
金属ストロンチウム(Sr) - 2N5
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2.64g/cm³777℃1382℃--ターゲット材、ゲッター材、
金属バリウム(Ba) - 2N5
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3.62g/cm³727℃1640℃--ターゲット、脱ガス・エージェント、ゲッター材、合金材料、
金属ボロン(B) - 3N
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2.34g/cm³2075℃2550℃--ターゲット、半導体材料、
金属マグネシウム(Mg)
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1.738g/cm³650℃1100℃--ターゲット材、
金属マンガン(Mn) - 3N
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7.3g/cm³1246℃2095℃--ターゲット、
金属バナジウム(V) - 2N5
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6.11g/cm³1910℃3407℃--ターゲット材、
高純度チタン(Ti) - 5N
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4.506g/cm³1668℃3277℃--ターゲット、半導体材料、スパッタリングターゲット材、真空装置内のゲッター材料、
結晶ハフニウム(Hf) - 3N
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13.31g/cm³2227℃4602℃--ターゲット、
結晶ジルコニウム(Zr) - 3N5
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6.506g/cm³1855℃3580℃--ターゲット、特殊合金溶解、
金属ゲルマニウム(Ge) - 5N
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5.32g/cm³937.2℃2830℃--ターゲット、太陽光半導体部品、
金属テルル(Te) - 4N
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6.24g/cm³450℃988℃2.25モース硬度-ターゲット、半導体部品、テルルはカルコゲンに分類される半金属の一つで、レアメタルでもあります。有毒な金属であり、体内に取り込まれると悪臭を放つとされます。 テルルの主要な用途は鉄鋼素材へ添加することで快削性や耐食性を向上させることができることから、合金添加元素として用いられるほか、DVD-RAMの記憶媒体や熱電変換素子としても使われます。
金属アンチモン(Sb) -3N
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6.69g/cm³630℃1587℃3モース硬度-ターゲット、アンチモンは半金属に分類されるレアメタルの一つです。古くは顔料や化粧品の材料に使われたこともありましたが、毒性のため現在はこうした用途では使われていません。主として半導体材料や電極、合金材料などに使われています。三酸化アンチモンには難燃効果もあるため、燃えやすいゴム、プラスチック、繊維などに添加することで防燃材としても活用されています。
金属ビスマス(Bi) - 4N
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9.8g/cm³630℃1560℃3モース硬度271.3℃ターゲット、クリーンルームでの真空溶解により製造されています。
分類名 成分
金属亜鉛(Zn) - 4N5
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Zn -----
99.995%-----
金属クロム(Cr) - 3N5
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Cr -----
99.95%-----
金属ニッケル(Ni) - 4N
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Ni -----
99.99%-----
金属コバルト(Co) - 3N5
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Co -----
99.95%-----
金属ニオブ(Nb) - 3N
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Nb -----
99.9%-----
金属タンタル(Ta) - 4N
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Ta -----
99.99%-----
金属タンタル(Ta) - 3N5
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Ta -----
99.95%-----
金属モリブデン(Mo) - 3N5
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Mo -----
99.95%-----
金属タングステン(W) - 3N5
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W -----
99.95%-----
金属鉛(Pb) - 4N5
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Pb -----
99.95%-----
金属リチウム(Li) - 3N
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Li -----
99.9%-----
金属カルシウム(Ca) - 2N5
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Ca -----
99.5%-----
金属ストロンチウム(Sr) - 2N5
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Sr -----
99.5%-----
金属バリウム(Ba) - 2N5
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Ba -----
99.5%-----
金属ボロン(B) - 3N
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Be -----
99.9%-----
金属マグネシウム(Mg)
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Mg -----
99.95%-----
金属マンガン(Mn) - 3N
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Mn -----
99.9%-----
金属バナジウム(V) - 2N5
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V -----
99.5%-----
高純度チタン(Ti) - 5N
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Ti -----
99.999%-----
結晶ハフニウム(Hf) - 3N
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Hf -----
99.9%-----
結晶ジルコニウム(Zr) - 3N5
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Zr -----
99.95%-----
金属ゲルマニウム(Ge) - 5N
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Ge -----
99.999%-----
金属テルル(Te) - 4N
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Te -----
99.99%-----
金属アンチモン(Sb) -3N
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Sb -----
99.9%-----
金属ビスマス(Bi) - 4N
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Bi Cu Pb Zn Fe Ag
99.99%0.001%0.001%0.0005%0.001%0.004%
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